ТЕХНИЧЕСКИЕ НАУКИ

                                                                                                1. Металлургия

Е.Я. Швец, Ю.В. Головко

Запорожская государственная инженерная академия, Украина

Математическая модель распределения примеси кислорода в процессе роста монокристалла кремния  

 

В Украине в последние годы растёт производство монокристаллов кремния по методу Чохральского для солнечной энергетики. Для обеспечения конкурентоспособности возрождающейся отрасли необходима оптимизация технологии, один из  путей которой - максимальное использование математического моделировании физических параметров процессов, протекающих при выращивании монокристаллов кремния в промышленных условиях.

Состояние вопроса. Важным показателем качества монокристаллов кремния является концентрация загрязняющей примеси кислорода. Типичное требование производителей солнечных элементов к содержанию кислорода  в монокристаллах кремния -  (5...10)×1017 см-3. Однако существует тенденция к сужению допустимого интервала изменения содержания кислорода по длине монокристалла  до (7...9)×1017 см-3 или до (5...7)×1017 см-3. Таким образом, управление концентрацией кислорода в заданных пределах является актуальной задачей при производстве монокристаллов кремния.

 Основным источником кислорода в монокристаллах кремния, выращенных по методу Чохральского, является растворение поверхности кварцевого тигля, соприкасающейся с расплавом кремния [1]. Образующаяся при этом моноокись кремния SiO частично испаряется с поверхности расплава. Оставшаяся её часть распределяется в расплаве, откуда кислород попадает в растущий кристалл. По мере выращивания монокристалла уменьшается масса расплава и отношение площади его контакта с тиглем к площади поверхности испарения, и всё большая доля образующейся моноокиси кремния уносится из расплава в газовую фазу. Этот фактор приводит к уменьшению концентрации кислорода в расплаве и в кристаллизующейся фазе. С другой стороны, в процессе кристаллизации  происходит постепенное оттеснение атомов кислорода  от фронта кристаллизации в расплав, связанное с тем, что эффективный коэффициент распределения этой примеси k < 1 [1]. Этот фактор способствует повышению концентрации кислорода в расплаве и в твердой фазе в процессе кристаллизации. На практике  концентрация кислорода в монокристалле кремния, выращиваемого по методу Чохральского, растет от его начала к хвосту, что свидетельствует о доминировании первого фактора над вторым.

Постановка задачи. Поскольку в процессе выращивания монокристалла кремния по методу Чохральского различные физические и технологические факторы находятся в сложной взаимозависимости и взаимодействии, то для управления концентрацией кислорода в выращиваемых монокристаллах кремния необходимо знать реальные значения  эффективного коэффициента распределения кислорода между жидкой и твёрдой фазами, а также  скорости его поступления  в расплав и испарения с поверхности расплава.

Задача настоящего исследования - разработка такой математической модели массообмена кислорода в процессе выращивания монокристалла кремния по методу Чохральского, которая позволяет оценивать значения  перечисленных выше параметров по экспериментальным данным распределения кислорода по длине монокристалла.

 В основу модели положено уравнение материального баланса  кислорода в процессе выращивания монокристалла кремния. Полученная математическая модель массообмена кислорода в процессе выращивания монокристалла кремния по методу Чохральского:

 

+  -

                                           -  =,                             (1)

где g - доля закристаллизовавшегося расплава; Nтв(0) и  Nтв(g)- плотность атомов кислорода в твёрдой фазе соответственно в начале кристаллизации и в момент, когда закристаллизовалась доля расплава g,  см-3; vв(g) -скорость вытягивания монокристалла из расплава, см/с; v(g) -  скорость поступления кислорода в расплав, ат/cм2·с; R – внутренний радиус цилиндрической части тигля, см; r - радиус монокристалла, см;   m0  - масса исходного расплава, г; gж  – плотность расплава, г∙см3; w – скорость испарения атомов кислорода с поверхности расплава, ат/cм2·с.

Значения m0, γж, R, r и vв известны из условий эксперимента. Концентрация кислорода Nтв(g) на различных участках монокристалла, отвечающих определённым значениям g, измеряется. Таким образом, (1) – уравнение с тремя неизвестными: k, v, w. Подставив в (1) экспериментальные значения Nтв  и vв для трёх значений g, получим систему из трёх уравнений (2), решив которую, найдём значения этих неизвестных.

где  ;

       ;

      

       .                                                                                           (2)

Разработанная математическая модель применена для определения параметров массообмена кислорода при выращивании монокристаллов кремния по методу Чохральского в промышленных условиях. Монокристалл кремния марки КДБ 0,5-2,0 выращен в установке типа «Редмет – 30» в атмосфере аргона. Кристаллографическая ориентация монокристалла - <100>, диаметр - 135,0 мм, легирующая примесь – бор. Концентрацию оптически активных атомов кислорода измеряли стандартным методом поглощения инфракрасного излучения [2]. Экспериментальные данные концентрации кислорода в выращенном монокристалле приведены на рис. 1.

 

Рисунок 1 - Зависимость концентрации атомов кислорода в монокристалле кремния от доли закристаллизовавшегося расплава g

 

Результаты расчётов по системе уравнений (2): k(0,1) = 0,52 ± 0,054; скорость поступления атомов кислорода из кварца тигля  v(0,1) = (7,64 ± 0,78)·1014 ат./см2·с; скорость испарения атомов кислорода с поверхности расплава    w(0,1) = (3,45 ± 0,35) ·1016 ат/см2·с.

Заключение. Разработанная математическая модель (1) позволила по данным стандартного контроля концентрации кислорода в выращенном монокристалле рассчитать величины эффективного коэффициента распределения кислорода между жидкой и твёрдой фазами, скорости его поступления  в расплав и испарения с поверхности расплава.

Знание этих трёх параметров позволяет программировать распределение концентрации кислорода по длине монокристала в процессе его выращивания.

 

Литература:

1. Полупроводниковый кремний: теория и технология производства /      Ю.Н. Таран, В.З. Куцова, И.Ф.Червоный, Е.Я. Швец, Э.С. Фалькевич. – Запорожье: ЗГИА, 2004. – 344 с.

2. ASTM Test  method for interstitial atomic oxygen content of silicon by infrared absorption (F1188 -00).